(1) 일반 모드
- 다기능 동시진행가능 (데이터 측정 진행하는 동안 데이터 처리가 동시에 가능함)
- 측정 스크린 설계를 개인이 지정 가능함 (파장, 데이터 표시 폰트 및 폰트 크기, 색깔)
- GLP/GMP 가능 (보안, 이력)
- 실시간 농도 및 흡광도 표시
(2) 스팩트럼 모드
- 여러 가지 스펙트럼과 연관된 처리된 데이터의 비교가능
- 모든 기기 조작의 히스토리를 포함한 모든 데이터 처리를 저장한다.
- 스펙트럼 확대/축소, 자동 스케일 조정과 복구 및 조정 등의 조작이 가능
- 스펙트럼 스크린에 주석달기 가능
(3) 정량 모드
- 단일파장, 다 파장 분석
- 스펙트럼 정량
- 다 포인트, 단일 포인트, K-인자 검량선 작성가능
(1차, 2차, 3차 함수 적합, pass-through-zero specification)
- 사용자 지정 기능을 포함한 포토메트릭 데이터 처리
(+, -, ×, ÷, Log, Exp, etc. functions, including factors)
- 무게 수정, 희석 인자 수정과 그 밖의 다른 인자들의 수정
- 반복 데이터 측정의 평균값 산출가능
- 스텐다드 테이블과 미지시료 테이블과 검량선의 동시 표시 가능
- 통과와 실패 지시의 표시
(4) 시간 진행 모드
- 다중 시간진행 데이터의 비교 및 연관 데이터 처리
- 단일 혹은 이중 파장측정
- 시간 진행 데이터와 효소 테이블과 그래프의 동시 표시
- 효소 카이네틱 계산(단일셀, 다중셀)
- Michaelis-Menten 계산과 그래프 작성
- 원 데이터, 시료 량, 희석 계수 등을 포함한 시료정보의 일원화 관리
- 측정하는 동안 시약의 첨가 등의 이벤트 기록
- 시간 진행 스펙트럼 데이터 처리
뿌리장비 예약
장비 상세정보
| 장비사진 | 장비명 | 자외선-가시광선 분광기(UV-VIS spectrometer) | ||
|---|---|---|---|---|
|
제작사 | Shimadzu | 모델명 | UV-2700 |
| NTIS | - | E-TUBE | 1610-B-0079 | |
| 장비분류 | 분석장비 | 기술분야 | 표면처리 | |
| 보유센터 | 부산뿌리기술지원센터 | 장비상태 | 정상 | |
| 구축일 | 2016-10-21 | 구축비용 | 26,145,000원 | |
| 수수료 | 건/5000 전처리/10000 | 바우처 사용 | 사용가능 | |
| 담당자 | 명윤 | 연락처 | ||
| 매뉴얼 |
|
|||
주요사항
원리 및 특징
1. 자외선/가시광선 분광광도계
1) 분광광도 시스템 : Czerny-Turner mounting, 이중 단색화 장치
2) 검출기 : R-928 광전증배관
3) 광원 : 50W 할로겐 램프, 중수소 램프
(광원 자동 위치 조정기능 내장)
4) 측정 파장 범위 : 185-900nm
5) 파장 정확도 : ± 0.1 nm (656.1 nm D2), ± 0.3 nm (All range)
6) 파장 반복성 : ± 0.05 nm
7) 파장 스케닝 속도 : 파장 회전율 약 14,000nm/min
파장 회전율 약 4,000nm to 0.5nm/min
8) 파장 세팅 : 1nm 단위
9) 램프 교체 파장 : 자동 스위칭, 290-370nm 사이에서 스위칭 파장 선택가능 (0.1nm 단위)
10) 슬릿 폭 : 0.1/0.2/0.5/1/2/5nm
11) 분해능 : 0.1nm
12) 미광 : 최대 0.00005%, (220nm, Nal), 최대 0.00002%, (340nm, 370nm, NaNo2)
최대 1% (198nm, KCl)
13) 포토메트릭 모드 : 흡광도 (Abs), 투과도 (%), 반사도 (%), 에너지 (E)
14) 포토메트릭 범위 : 흡광도 (-8.5 to 8.5 Abs), 투과도, 반사도 (0 to 100,000 %)
15) 포토메트릭 정확도 : ±0.002 Abs (0.5 Abs), ±0.003 Abs (1.0 Abs),
±0.006 Abs (2.0 Abs)
16) 포토메트릭 반복성 : ±0.001 Abs (0.5 Abs), ±0.001 Abs (1.0 Abs),
±0.003 Abs (2.0 Abs), ±0.001 % T
17) 잡음 수준 : 0.00005 Abs RMS (500nm)
18) 바탕선 평탄도 : ±0.0004Abs (200～860nm), 광원 켜고 한시간 후
19) 바탕선 안정도 : 0.0003 Abs/h(700nm) 이내, 광원 켜고 한시간 후
20) 샘플 공간 : 내부 면적 (W150 × D260 × H140 (mm)), 광원 사이 거리 (100mm),
최대 셀과의 거리 (100 mm)
21) 온도 및 습도 : 15~35℃, 30~80%
22) 요구 전력 : 100 to 240 VAC, 50/60Hz ; 170VA
23) 크기, 무게 : W450 × D600 × H250 (mm), 23kg
1) 분광광도 시스템 : Czerny-Turner mounting, 이중 단색화 장치
2) 검출기 : R-928 광전증배관
3) 광원 : 50W 할로겐 램프, 중수소 램프
(광원 자동 위치 조정기능 내장)
4) 측정 파장 범위 : 185-900nm
5) 파장 정확도 : ± 0.1 nm (656.1 nm D2), ± 0.3 nm (All range)
6) 파장 반복성 : ± 0.05 nm
7) 파장 스케닝 속도 : 파장 회전율 약 14,000nm/min
파장 회전율 약 4,000nm to 0.5nm/min
8) 파장 세팅 : 1nm 단위
9) 램프 교체 파장 : 자동 스위칭, 290-370nm 사이에서 스위칭 파장 선택가능 (0.1nm 단위)
10) 슬릿 폭 : 0.1/0.2/0.5/1/2/5nm
11) 분해능 : 0.1nm
12) 미광 : 최대 0.00005%, (220nm, Nal), 최대 0.00002%, (340nm, 370nm, NaNo2)
최대 1% (198nm, KCl)
13) 포토메트릭 모드 : 흡광도 (Abs), 투과도 (%), 반사도 (%), 에너지 (E)
14) 포토메트릭 범위 : 흡광도 (-8.5 to 8.5 Abs), 투과도, 반사도 (0 to 100,000 %)
15) 포토메트릭 정확도 : ±0.002 Abs (0.5 Abs), ±0.003 Abs (1.0 Abs),
±0.006 Abs (2.0 Abs)
16) 포토메트릭 반복성 : ±0.001 Abs (0.5 Abs), ±0.001 Abs (1.0 Abs),
±0.003 Abs (2.0 Abs), ±0.001 % T
17) 잡음 수준 : 0.00005 Abs RMS (500nm)
18) 바탕선 평탄도 : ±0.0004Abs (200～860nm), 광원 켜고 한시간 후
19) 바탕선 안정도 : 0.0003 Abs/h(700nm) 이내, 광원 켜고 한시간 후
20) 샘플 공간 : 내부 면적 (W150 × D260 × H140 (mm)), 광원 사이 거리 (100mm),
최대 셀과의 거리 (100 mm)
21) 온도 및 습도 : 15~35℃, 30~80%
22) 요구 전력 : 100 to 240 VAC, 50/60Hz ; 170VA
23) 크기, 무게 : W450 × D600 × H250 (mm), 23kg
사용예
(1) 도금 용액의 이온 가수에 대하여 분석하는 장비로 부산지역 습식 표면처리 중 가장 많은 양을 차지하는 크롬(Chromium) 도금에 대하여 용액 내 이온의 분포 분석 등에 활용
(2) 액체 시료에 자외선 / 가시광선을 조사하여 형성된 파장으로부터 용액 정량, 정성분석
(3) 크롬 도금 용액 내 3가 크롬 및 6가 크롬 이온 농도 분석
(2) 액체 시료에 자외선 / 가시광선을 조사하여 형성된 파장으로부터 용액 정량, 정성분석
(3) 크롬 도금 용액 내 3가 크롬 및 6가 크롬 이온 농도 분석
활용분야
(1) 도금 용액의 이온 가수에 대하여 분석하는 장비로 부산지역 습식 표면처리 중 가장 많은 양을 차지하는 크롬(Chromium) 도금에 대하여 용액 내 이온의 분포 분석 등에 활용
(2) 액체 시료에 자외선 / 가시광선을 조사하여 형성된 파장으로부터 용액 정량, 정성분석
(3) 크롬 도금 용액 내 3가 크롬 및 6가 크롬 이온 농도 분석
(2) 액체 시료에 자외선 / 가시광선을 조사하여 형성된 파장으로부터 용액 정량, 정성분석
(3) 크롬 도금 용액 내 3가 크롬 및 6가 크롬 이온 농도 분석