- pulse laser deposition 챔버에서 레이저를 활용한 박막 증착 가능
- 샘플 heating이 1000 °C까지 가능하게 하여 고온증착이 필요한 3성분계이상의 세라믹박막증착 가능
- 열처리/패터닝 챔버에서 레이저를 활용한 표면 처리 및 패터닝이 가능
- 진공펌핑 이후 활성가스 혹은 불활성 가스 주입 하여 1atm으로 사용
- 레이저를 이용한 국부 열처리 및 패터닝 가능 , 레이저 스팟 크기 30㎛이하
- 레이저를 이용한 열처리 및 패터닝 가능 유효면적 600cm2이상
- 레이저 빔 패스가 오픈 되어있을 때 위험성을 감소시키기 위한 하우징 설비를 갖추고, 하우징 안전제어시스템을 통한
상태 모니터링 및 제어 가능
- 레이저 시스템 : 펨토초 레이저가 각각의 챔버에 입사될 수 있도록 구성된 레이저 빔을 포함한 optic구성
· Femtosecond laser : 레이저 평균 파워>2.5W at peak of tuning range, 파장 700nm-1020nm 가변,
pulse폭 140 fs, repitition rate 80 MHz, noise < 0.15%, output power stability < ±0.5%,
출구 레이저 빔 크기< 1.5 mm, 레이저 파장 가변 스피드 >300nm/s
· 광학부: high density laser mirror, laser attenuator 10개, beam slit
· 미러스팩 : substrate-fused silica, wavelength range 700-1020 nm, reflection@DWL(%) 99,
diameter 25mm, damage threshold, pulsed 100mJ/cm2@800nm, 50fs, surface quality 20/10
- 시스템 규모 : station 기준 약 7(L)×5(W)×3(H)
- 열처리/패터닝 챔버 : 유효면적 : 300mm×300 mm, 가스2채널, TMP 500l, RP 300l, heating module 200도,
DC power , 6축자동제어가능한 스테이지
- PLD챔버 : TMP 300l, RP 300l, 유효면적 15mm×15 mm, target 4개, heating module max.100도,
DC power, load lock system
- 시스템 프레임 및 보호: 시스템 interlock 및 가스 알람, 차단설비(개폐식룸)
뿌리장비 예약
장비 상세정보
| 장비사진 | 장비명 | 레이저클러스터표면처리시스템(Laser Cluster Surface Treatment ) | ||
|---|---|---|---|---|
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제작사 | 시니즈 | 모델명 | 모델명없음(제작장비) |
| NTIS | NFEC-2018-10-246720 | E-TUBE | 1810-C-0117 | |
| 장비분류 | 공정장비 | 기술분야 | 표면처리 | |
| 보유센터 | 부산뿌리기술지원센터 | 장비상태 | 정상 | |
| 구축일 | 2018-10-19 | 구축비용 | 756,716,720원 | |
| 수수료 | 시간당 50,000 | 바우처 사용 | 사용가능 | |
| 담당자 | 권아람 | 연락처 | 051-987-9202 | |
| 매뉴얼 |
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주요사항
원리 및 특징
- 기계·전자분야 기능성 소재부품의 ‘박막증착’, 국부‘열처리’ 및 ‘패터닝 ·가공’ 적용이 가능한 다목적 표면처리시스템 설비
‧ 열처리 및 패터닝: 대상 물질에 직접 레이저를 입사시켜 주위 물성 변화 없이 원하는 부위만 국부적으로 레이저 에너지를 흡수시키는 표면처리. 입사 에너지를 조절함에 따라 표면 가공도 가능
‧ 박막증착: 대상물질이 아닌 타겟에 레이저를 입사시켜 생성된 플라즈마를 이용한 박막 증착법. 높은 에너지원을 이용하기 때문에 증착이 어려운 세라믹이나 다성분계 박막 증착에 유리
‧ 열처리 및 패터닝: 대상 물질에 직접 레이저를 입사시켜 주위 물성 변화 없이 원하는 부위만 국부적으로 레이저 에너지를 흡수시키는 표면처리. 입사 에너지를 조절함에 따라 표면 가공도 가능
‧ 박막증착: 대상물질이 아닌 타겟에 레이저를 입사시켜 생성된 플라즈마를 이용한 박막 증착법. 높은 에너지원을 이용하기 때문에 증착이 어려운 세라믹이나 다성분계 박막 증착에 유리
사용예
- pulse laser deposition 챔버에서 레이저를 활용한 박막 증착 가능
- 로드락 내부 샘플과 타겟이 각각 4개이상 보관 가능하여야하며, 샘플과 타겟의 챔버 장입이 쉽게 컨트롤
- 샘플 heating이 1000 °C까지 가능하게 하여 고온증착이 필요한 3성분계이상의 세라믹박막증착 가능
- 열처리/패터닝 챔버에서 레이저를 활용한 표면 처리 및 패터닝이 가능
- 진공펌핑 이후 활성가스 혹은 불활성 가스 주입 하여 1atm으로 사용
- 레이저를 이용한 국부 열처리 및 패터닝 가능 , 레이저 스팟 크기 30㎛이하
- 레이저를 이용한 열처리 및 패터닝 가능 유효면적 600cm2이상
- 에칭공정 없이 원하는 패턴으로 원하는 금속패턴제작 가능
- 유리, 웨이퍼, 고분자 필름 등 다양한 기판에 고정밀 패터닝 가능한 장치
- 레이저 빔 패스가 오픈 되어있을 때 위험성을 감소시키기 위한 하우징 설비를 갖추고, 하우징 안전제어시스템을 통한 상태 모니터링 및 제어 가능
- 차후 엑시머 레이저가 추가되었을 때 각각의 클러스터 챔버에 입사될 수 있도록 확장성포함 및 장비 적용
- 로드락 내부 샘플과 타겟이 각각 4개이상 보관 가능하여야하며, 샘플과 타겟의 챔버 장입이 쉽게 컨트롤
- 샘플 heating이 1000 °C까지 가능하게 하여 고온증착이 필요한 3성분계이상의 세라믹박막증착 가능
- 열처리/패터닝 챔버에서 레이저를 활용한 표면 처리 및 패터닝이 가능
- 진공펌핑 이후 활성가스 혹은 불활성 가스 주입 하여 1atm으로 사용
- 레이저를 이용한 국부 열처리 및 패터닝 가능 , 레이저 스팟 크기 30㎛이하
- 레이저를 이용한 열처리 및 패터닝 가능 유효면적 600cm2이상
- 에칭공정 없이 원하는 패턴으로 원하는 금속패턴제작 가능
- 유리, 웨이퍼, 고분자 필름 등 다양한 기판에 고정밀 패터닝 가능한 장치
- 레이저 빔 패스가 오픈 되어있을 때 위험성을 감소시키기 위한 하우징 설비를 갖추고, 하우징 안전제어시스템을 통한 상태 모니터링 및 제어 가능
- 차후 엑시머 레이저가 추가되었을 때 각각의 클러스터 챔버에 입사될 수 있도록 확장성포함 및 장비 적용
활용분야
- 건식 표면처리 뿌리기업의 시제품 개발 및 제작 지원
‧ 레이저 표면처리 개발품 또는 시제품 제작 시 공정최적화용 또는 테스트 샘플 제작용으로 파일럿 플랜트 역할 수행
‧ 기구축되어있는 습식표면처리시스템과의 융합연계공정 지원
‧ 레이저 표면처리 개발품 또는 시제품 제작 시 공정최적화용 또는 테스트 샘플 제작용으로 파일럿 플랜트 역할 수행
‧ 기구축되어있는 습식표면처리시스템과의 융합연계공정 지원