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뿌리장비 예약

장비 상세정보

에어로졸 증착 시스템(Aerosol deposition system)

에어로졸 증착 시스템(Aerosol deposition system) 상세 정보
장비사진 장비명 에어로졸 증착 시스템(Aerosol deposition system)
에어로졸 증착 시스템(Aerosol deposition system) 장비 사진 제작사 정민실업 모델명 모델명 없음
NTIS NFEC-2013-10-183315 E-TUBE 1305-C-0155
장비분류 공정장비 기술분야 열처리
보유센터 시흥뿌리기술지원센터 장비상태 정상
구축일 2013-05-29 구축비용 208,900,000원
수수료 90,000원/hr 바우처 사용 사용가능
담당자 안경준 연락처
매뉴얼
  • 첨부파일 없음

주요사항

? 에어로졸 증착 시스템으로 상온, 고속 증착 및 대면적 프로세싱의 특징을 가지고 있으며, 고진공, 고압분사, 미세파우더(<500nm) 프로세싱을 증착속도 10㎛/hr 이상, 막 균일도 1%이내로 수행할 수 있음

? 다층구조 증착용 2세트의 증착노즐 및 feeding system 구성
- Vacuum pumping system, Gas supply system, Pressure control system,
- Chamber system, xyz position stage system, Vibrating system,
- Nozzle system 2set, Powder feeding system 2set
- Main controller: 380V, 20kW

? 초고속분사/상온증착
- 저온재료 기판(PCB 등) 상에 세라믹분말 ITO 등 코팅

? 후막코팅/고속증착
- 열차폐코팅 등 후막이 요구되는 부품에 적용

? Defect free 고밀도코팅
- ITO 등의 전자재료 코팅

원리 및 특징

다층구조 증착용 2세트의 증착노즐 및 feeding system 구성

사용예

초고속분사/상온증착
? 저온재료 기판(PCB 등) 상에 세라믹분말 ITO 등 코팅
후막코팅/고속증착
? 열차폐코팅 등 후막이 요구되는 부품에 적용
Defect free 고밀도코팅
? ITO 등의 전자재료 코팅

활용분야

? 에어로졸 증착 시스템으로 상온, 고속 증착 및 대면적 프로세싱의 특징을 가지고 있으며, 고진공, 고압분사, 미세파우더(<500nm) 프로세싱을 증착속도 10㎛/hr 이상, 막 균일도 1%이내로 수행할 수 있음

? 다층구조 증착용 2세트의 증착노즐 및 feeding system 구성
- Vacuum pumping system, Gas supply system, Pressure control
system,
- Chamber system, xyz position stage system, Vibrating system,
- Nozzle system 2set, Powder feeding system 2set
- Main controller: 380V, 20kW

초고속분사/상온증착
- 저온재료 기판(PCB 등) 상에 세라믹분말 ITO 등 코팅
후막코팅/고속증착
- 열차폐코팅 등 후막이 요구되는 부품에 적용

Defect free 고밀도코팅
- ITO 등의 전자재료 코팅

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