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뿌리장비 예약

장비 상세정보

X선 광전자분석기(X-ray Photoelectron Spectroscope)

X선 광전자분석기(X-ray Photoelectron Spectroscope) 상세 정보
장비사진 장비명 X선 광전자분석기(X-ray Photoelectron Spectroscope)
X선 광전자분석기(X-ray Photoelectron Spectroscope) 장비 사진 제작사 Thero VG Scientific 모델명 Sigma Probe
NTIS NFEC-2015-05-202132 E-TUBE 1504-B-0116
장비분류 분석장비 기술분야 표면처리
보유센터 부산뿌리기술지원센터 장비상태 정상
구축일 2015-04-24 구축비용 806,600,363원
수수료 70,000/건, 150,000/건 (Depth profiling) 바우처 사용 사용가능
담당자 권아람 연락처 051-987-9202
매뉴얼
  • 첨부파일 없음

주요사항

? 시료 처리실: 표준물질의 증착, 오염된 고체표면의 컷팅, 온도제어, 가스처리 등
? 측정실 : 시료를 여기시키는 전원, 시료로부터 방출되는 광전자의 에너지를 분별하는 에너지 분석기, 전자검출기로 구성

본 장치는 X선을 시료에 조사 시 광전자가 방출되는 현상을 이용하여 광전자 운동에너지를 분석함으로써 금속, 촉매, 반도체소자재료, 세라믹스, 박막, 고분자피막 등시료표면층(Surface layer, 약 50-100micron)에 분포되어 있는 원소를 정성 및 정량분석함.

원리 및 특징

○ Photoelectron을 detect하면 kinetic energy를 얻을 수 있으며, 전자가 가지
는 Binding energy를 계산

사용예

• 표면처리 시험편의 정량분석 및 화학적 상태 측정
• 표면 두께별 정량/정성 분석 (Depth Profiling)
• 유기물, 무기물 정량/정성 분석

장비 설명

활용분야

• Type : Spherical sector analyzer 180 degree
• Mean radius : 275 mm
• Detector : Multi channeltron detector UHV Analysis Chamber
• UHV vacuum : 5 x 10-10 mba MonochromatorX-Ray source (Mg/Al)
• Type : Microfocused monochromator source
• Electron gun : 15kV Flood gun
• Low energy for charge compensation Ion source
• Energy range : 0.1KeV to 4KeV, continuously variable
• Max. beam current density : 3mA/cm2 or equivalent
• Min. beam diameter : 200 ㎛ or equivalent
• REELS Option : Hydrogen detection, Carbon status confirmation, etc
• ISS (Ion Scattering Spectroscopy) Standard

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